第690章 芯片战忽局

这一刻，曹卫东想到了湾湾的某电。在某电横空出世之前，芯片厂的制造模式被称作Idm。即从芯片设计到完成成品。都是由同一家公司完成的。然而这就意味着芯片公司必须具有整个产业链上的技术与人才、生产制造设备，导致每家公司都无法专精于芯片产业链上的某个环节，造成大量的资源浪费。张仲谋认为，未来的芯片产业必定是要实现分工的，而晶圆制造这一领域，属于整个芯片行业的底端。晶圆是芯片的母体。晶圆制造，则是将芯片设计图纸真正在晶圆上蚀刻成电路的工艺技术。于是他创办了某电，专门做晶圆制造的代工。这样做的好处是把一大批创业期芯片设计公司解放出来，让他们专注于自己天马星空的设计方案，推动了芯片的快速发展，而把实际制造、需要大量设备工艺与工人的的“脏活累活”交给代工厂们实现。这种区别于Idm模式的芯片制造模式，被称为代工厂模式。之后的事情也证明了张仲谋的正确。随着个人计算机、手机的兴起，以及对消费级芯片的需求量爆发式增长，从而诞生了很多芯片初创公司，这些公司无力承担芯片全产业链的成本，因而纷纷主攻轻资产的芯片设计环节，而将制造交予台积电这样的专业化代工厂。于是，台积电逐渐腾飞。曹卫东觉得，芯片代工的道路很适合星火电子厂。他可以将星火电子厂打造成一家全产业链能力的Idm大厂，但是在非特定领域可以对外代工。当然，其中还有一个隐患，就是光刻机。君不见与某电同台竞争的大陆本土晶圆代工企业中芯国际，由于一直苦于没有高端光刻机供货，至今也只能接接中低端的代工订单，无法踏入高端芯片制造舞台。光刻机。曹卫东低声呢喃着。在解决了EdA软件卡脖子的问题后，除了推陈出新，推进自家EdA软件发展之外，下一步，他还要着手解决光刻机的问题。实际上，神州一直是光刻机设计制造生产大国。1964年，神州科学院研制出65型接触式光刻机；1970年，神州科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺。1977年，光刻机GK-3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机。1980年，清华大学研制第四代分部式投影光刻机，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平，而直到这个时候，光刻机巨头ASmL还没诞生。1981年，神州科学院半导体所研制成功JK-1型半自动接近式光刻机。1982年，KhA-75-1光刻机诞生，这些光刻机跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年的时间。1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到美国4800dSw的水平。此时，神州在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。但是很可惜，神州的光刻机研发之旅至此结束。从这之后，神州开始大规模引进外资，在＂造不如买”“科学无国界”等思潮，光刻技术和产业化，停滞不前，许多光刻机等科技计划被迫取消。而在这期间，荷兰的ASmL在整合了全世界的资源后，出奇制胜，成为光刻机绝对的霸主。在ASmL成功的道路上，有两大机遇。一是浸润式光刻技术，由此对应着dUV光刻机。一是深紫外线光刻机技术，由此对应着EUV光刻机。九十年代，干式光刻机技术大行其道，其芯片生产工艺达到了65nm，接下来的目标是向着45nm前进。然而干式光刻机使用的是干式介质，采用的光线有一大堆问题，非常难以解决。这时候某电的林本坚就提出了一个观点，即用水来充当介质。经过试验，他发现这一思路是可行的。彼时的光刻机巨头尼康、佳能。这些大厂早就在干式光刻机上投入了几十亿美元研究，投入太多，无法改弦更张。而ASmL因为是一家小厂，秉承着光脚不怕穿鞋的理念，和某电合力研发浸润式光刻机了。最后就是ASmL与台积电研发浸润式光刻机成功了。这就是dUV光刻机。经过了多年的发展，目前，dUV光刻机已经可以满足绝大多数需求，可以覆盖7nm及以上制程需求。到了这时候，学者们的普遍观点是，EUV将是下一代光刻技术。EUV光刻机采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13.5nm，能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。另外值得一提，早在20世纪80年代，大约是1985年，就有学者开始研究EUV光刻技术。只可惜技术一直达不到要求，而且要消耗大量的资金，因此这一技术发展缓慢。直到2015年，EUV光刻机才进入可量产阶段。“我记得之前看过资料，一台EUV光刻机的造价高达6500万美元，如果初期研究，投入的花销还会更多，所以目前，我应该推进浸润式光刻机的发展，这是符合时代潮流的，等通过浸润式光刻机将星火电子厂做大做强后，再来推进EUV光刻机的研究。”“虽然我可以从万界商城中购买到全套技术，但以目前的环境、人才、社会形势，还不到拿出完整浸润式光刻机的时候，还需要等待啊。”这个世界是复杂的，联动的。并不是有技术就可以为所欲为。君不见脚盆鸡在半导体如日中天，却被美爹以非常非常血腥的方式瓜分肢解。君不见华为前脚遥遥领先，后脚就被美帝无耻打压。曹卫东对此很警惕。很快，他就在心里制定了一套方案。一方面，联合神州科学院，悄然进行浸润式光刻机的研究。另一方面，提醒国家，以应对西方世界发动的舆论战，防止出现自废武功的事情。“咦，这样的话，我似乎可以成立一个战忽局了，芯片战忽局？”“什么浸润式光刻机，那只是干式光刻机改而已.......”“什么10nm，就是比常规芯片小一点而已.......”“什么浸润式技术，什么EUV光刻技术，干式光刻技术才是未来的王道！”“美帝，你看我们旁边的脚盆鸡、韩棒子、阿三哥，他们都有狼子野心啊.......”想到这里，曹卫东表情瞬间变得古怪起来。